使用采样器状态
耦合的纹理和采样器
大多数情况下，在着色器中采样纹理时，纹理采样状态应来自纹理设置；本质上，纹理和采样器会耦合在一起。使用 DX9 风格的着色器语法时，这是默认行为：
sampler2D _MainTex;
// ...
half4 color = tex2D(_MainTex, uv);
使用 HLSL 关键字 sampler2D、sampler3D 和 samplerCUBE 可声明纹理和采样器。
大部分情况下，这是您想要的结果，而且在较旧的图形 API (OpenGL ES) 中，这是唯一受支持的选项。
单独的纹理和采样器
很多图形 API 和 GPU 都允许使用的采样器数量少于纹理，而耦合的纹理+采样器语法可能不允许编写更复杂的着色器。例如，Direct3D 11 允许在单个着色器中最多使用 128 个纹理，但最多仅允许使用 16 个采样器。
Unity 允许使用 DX11 风格的 HLSL 语法来声明纹理和采样器，但需要通过一个特殊的命名约定来让它们匹配：名称为“sampler”+TextureName 格式的采样器将从该纹理中获取采样状态。
以上部分中的着色器代码片段可以用 DX11 风格的 HLSL 语法重写，并且也会执行相同的操作：
Texture2D _MainTex;
SamplerState sampler_MainTex; //"sampler"+"_MainTex"
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
但这样一来，就可以编写着色器来重复使用其他纹理中的采样器，同时采样多个纹理。在以下示例中，采样了三个纹理，但仅一个采样器用于所有这些纹理：
Texture2D _MainTex;
Texture2D _SecondTex;
Texture2D _ThirdTex;
SamplerState sampler_MainTex; //"sampler"+"_MainTex"
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
color += _SecondTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
color += _ThirdTex.Sample(sampler_MainTex, uv);
但是请注意，DX11 风格的 HLSL 语法在某些较旧的平台（例如，OpenGL ES 2.0）上无效，请参阅着色语言以了解详细信息。您可能希望指定 #pragma target 3.5（请参阅着色器编译目标）以避免较旧的平台使用着色器。
Unity 提供了一些着色器宏帮助您使用这种“单独采样器”方法来声明和采样纹理，请参阅内置宏。以上示例可以采用所述的宏重写为下列形式：
UNITY_DECLARE_TEX2D(_MainTex);
UNITY_DECLARE_TEX2D_NOSAMPLER(_SecondTex);
UNITY_DECLARE_TEX2D_NOSAMPLER(_ThirdTex);
// ...
half4 color = UNITY_SAMPLE_TEX2D(_MainTex, uv);
color += UNITY_SAMPLE_TEX2D_SAMPLER(_SecondTex, _MainTex, uv);
color += UNITY_SAMPLE_TEX2D_SAMPLER(_ThirdTex, _MainTex, uv);
以上代码将在 Unity 支持的所有平台上进行编译，但会在 DX9 等旧平台上回退到使用三个采样器。
内联采样器状态
除了能识别名为“sampler”+TextureName 的 HLSL SamplerState 对象，Unity 还能识别采样器名称中的某些其他模式。这对于直接在着色器中声明简单硬编码采样状态很有用。例如：
Texture2D _MainTex;
SamplerState my_point_clamp_sampler;
// ...
half4 color = _MainTex.Sample(my_point_clamp_sampler, uv);
名称 “my_point_clamp_sampler”将被识别为应该使用点（距离最近）纹理过滤和钳制纹理包裹模式的采样器。
采样器名称被识别为“内联”采样器状态（全都不区分大小写）：
*“Point”、“Linear”或“Trilinear”（必需）设置纹理过滤模式。
*“Clamp”、“Repeat”、“Mirror”或“MirrorOnce”（必需）设置纹理包裹模式。
* 可根据每个轴 (UVW) 来指定包裹模式，例如"ClampU_RepeatV"。
*“Compare”（可选）设置用于深度比较的采样器；与 HLSL SamplerComparisonState 类型和 SampleCmp/SampleCmpLevelZero 函数配合使用。
以下是分别使用 sampler_linear_repeat 和 sampler_point_repeat 采样器状态进行纹理采样的示例，说明了如何通过名称控制过滤模式：
以下是分别使用 SmpClampPoint、SmpRepeatPoint、SmpMirrorPoint、SmpMirrorOncePoint 和 Smp_ClampU_RepeatV_Point 采样器状态的示例，说明了如何通过名称控制包裹模式。在上一个示例中，为水平轴 (U) 和垂直轴 (V) 设置了不同的包裹模式。在任何情况下，纹理坐标的范围都是从 –2.0 到 +2.0。
就像单独的纹理+采样器语法一样，某些平台不支持内联采样器状态。目前在 Direct3D 11/12、PS4、XboxOne 和 Metal 上实现了内联采样器状态。
请注意，大部分移动端 GPU/API 上不支持“MirrorOnce”纹理包裹模式，并将在不支持的情况下回退到 Mirror 模式。
2017–06–01 页面已发布
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